陰極電弧制備AlTiN和TiAlSiN涂層的性能及銑削性能
作者：吳雁; 王犁; 陳強; 黃彪; 張而耕; 周瓊; 鄭剛 上海應用技術大學上海物理氣相沉積(PVD)超硬涂層及裝備工程技術研究中心; 上海201418
摘要：采用陰極電弧離子鍍技術在YG10硬質合金試片及銑刀上分別制備了厚度為為2.604μm和2.798μm的納微米AlTiN和TiAlSiN涂層,采用實驗方法研究涂層的微觀結構、力學性能,以及涂層刀具銑削HT200時的銑削性能。實驗研究結果表明:制備的AlTiN及TiAlSiN涂層的硬度分別為29.14 GPa及38.94 GPa,Si元素的添加細化涂層組織結構,TiAlSiN涂層的斷面結構更為致密,涂層的硬度及耐磨性顯著增加。AlTiN及TiAlSiN涂層與基體的結合強度等級分別滿足工業等級的HF3、HF1要求,TiAlSiN涂層表現出較好的膜基結合性能。相較于AlTiN涂層,TiAlSiN涂層刀具表現出較小的切削力。此外,TiAlSiN涂層比AlTiN涂層擁有較好的抵抗磨損的能力。
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中國陶瓷雜志
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