PI／NiO／g-C3N4復合光催化劑的制備及其對甲基橙的光催化降解
作者：朱世偵; 王清; 毛潔; 周婭芬 西華師范大學化學化工學院; 四川南充637009; 西華師范大學化學合成與污染控制四川省重點實驗室; 四川南充637009
摘要：合成了復合光催化劑PI／NiO／g-C3N4，并進行了掃描電鏡（SEM）、x射線衍射（XRD）和傅里葉變換紅外光譜（FT-IR）等表征。通過在紫外-可見光下降解甲基橙染料，研究了其光催化活性及反應機理。在染料濃度為20mg／L、催化劑用量為1g／L、光照時間15min時，15％PI／NiO／g-C3N4光催化劑對甲基橙染料的降解率達到97．6％。循環實驗表明，經過3次循環后，降解率略有下降，說明復合光催化劑具有較高的光催化穩定性。自由基捕獲實驗表明，光催化降解過程中主要的活性物種為超氧陰離子自由基（·O2-1），同時羥基自由基（·OH）和光生空穴（h＋）也參與了光催化活動。
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西華師范大學學報·哲學社會科學版雜志
西華師范大學學報·哲學社會科學版雜志， 雙月刊，本刊重視學術導向，堅持科學性、學術性、先進性、創新性，刊載內容涉及的欄目：政治法律、教育研究、經濟研究、歷史研究、文學研究、外語教學研究、教改探索。等。于1979年經新聞總署批準的正規刊物。
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