摘要：蠟沉積層的形成機(jī)理對(duì)于管道進(jìn)行防蠟清蠟作業(yè)具有重要意義。基于分子擴(kuò)散理論,建立了蠟沉積層形成模型。以擴(kuò)散指數(shù)取值2.5、3.5,平均孔隙度取值0.75、0.90為例,計(jì)算得到沉積質(zhì)量、沉積層厚度和平均孔隙度隨時(shí)間的變化規(guī)律。結(jié)果表明,擴(kuò)散指數(shù)越小,蠟沉積質(zhì)量增加的越快。沉積層越厚,孔隙度級(jí)別降低的越慢。擴(kuò)散指數(shù)較大時(shí),沉積層厚度初始增速較大,但是一定時(shí)間后厚度逐漸平穩(wěn)。在整個(gè)沉積層形成期間,盡管孔隙度級(jí)別會(huì)顯著的減少,但初始線性孔隙度分布還是會(huì)保持線性。