摘要：采用直流反應磁控濺射技術(shù),使用原子比4:1的鎳鎢合金靶,在不同氬氧比條件下制備了W摻雜的NiOx薄膜。利用X射線衍射儀(XRD),掃描電子顯微鏡(SEM),原子力顯微鏡(AFM),分光光度計和光譜橢圓偏振儀(SE)對薄膜進行分析和表征,研究濺射過程中氧分壓對薄膜形貌、結(jié)構(gòu)和光學性能的影響。研究結(jié)果表明:顆粒之間相互接觸在薄膜表面形成片狀結(jié)構(gòu);隨著氧分壓上升,薄膜中的顆粒尺寸減小,結(jié)晶程度下降,衍射峰的位置向小角度方向移動;光學透過率和光學帶隙隨氧分壓上升而下降,而折射率和消光系數(shù)則隨氧分壓上升而增大。最優(yōu)工藝條件下制備的電致變色器件結(jié)構(gòu)為FTO/LiyWO3/電解質(zhì)/W摻雜NiOx/ITO。器件在波長550nm處的光調(diào)制幅度為56.3%,著色態(tài)透過率為3.9%,褪色態(tài)透過率為60.2%。